PLI-MPVD系列磁控/多弧/离子源复合PVD镀膜设备
• 磁控溅射/阴极电弧/离子源多功能复合PVD设备
• 平面矩形磁控溅射阴极,旋转阴极可选
• 圆弧与平面矩形电弧阴极,可选
• 电磁控弧技术,弧斑强分散
• 有效减少液滴,提高涂层质量
• 腔体内部尺寸:800-1800mm(直径)×800-1800mm(高)
可镀涂层材料:
• 金属:Ti, Cr, Al, Ag,Au,Ni,Cu...
• 氮化物:TiN, CrN, AlN,SiN,TiAlN, TiAlSiN…
• 碳化物:TiC,SiC,DLC…
• 氧化物:Al2O3,SiO2,TiO2,ZrO2…
应用领域:
• 消费电子(电磁屏蔽、3C数码产品部件等)
• 汽车工业(活塞、耐磨装饰镀膜)
• 工具模具(钻头、铣刀、拉活塞环、轮毂、发动机摩擦部件)
• 钟表行业(表壳、表带、表盘等刀、精密模具等硬质涂层)
• 五金卫浴(卫生洁具、门把手、门锁、水龙头等装饰镀)
• 珠宝工艺品行业(珠宝首饰、工艺品等表面装饰镀膜)


